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合作案例

清華大學(xué)采購(gòu)PLUTO-T等離子清洗機(jī) 清華大學(xué)調(diào)研了眾多等離子表面處理設(shè)備，最終選擇了上海沛沅生產(chǎn)的Pluto-T等離子清洗機(jī)/表面處理機(jī)。根據(jù)客戶(hù)的技術(shù)要求，提供了可以滿(mǎn)足老師所有技術(shù)參數(shù)要求的Pluto-T等離子清洗機(jī)/表面處理機(jī)，以下為該設(shè)備的安裝調(diào)試圖。
上海交大采購(gòu)PLUTO-MC沉積鍍膜設(shè)備 2020年12月，上海交通大學(xué)采購(gòu)我司PLUTO-MC沉積鍍膜設(shè)備。該設(shè)備采用13.56MHz射頻，涂覆面積為150*150mm，具備良好的穩(wěn)定性與可重復(fù)性。
電子科技大學(xué)采用Pluto-MD等離子去膠機(jī)進(jìn)行晶圓去膠電子科技大學(xué)已采購(gòu)多臺(tái)等離子設(shè)備，包括PLUTO-T等離子清洗機(jī)，PLUTO-MD等離子去膠機(jī)等，用戶(hù)反饋良好。主要涉及的應(yīng)用有：晶圓光刻膠的去除、電子半導(dǎo)體樣品表面有機(jī)物的去除、多功能微納結(jié)構(gòu)寬帶吸收器的表面處理等等。

新聞中心

企業(yè)新聞| CORPORATE NEWS

: 等離子處理機(jī)主要分為低壓和大氣壓兩種類(lèi)型

等離子處理機(jī)利用高能離子束對(duì)材料表面進(jìn)行處理，通過(guò)改變材料表面的化學(xué)、物理性質(zhì)，實(shí)現(xiàn)表面改性、清洗和去污等功能。它能夠有效去除表面的油脂、添加劑、氧化層等污染物...
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技術(shù)文章| Technical articles

: 等離子去膠機(jī)能夠有效去除物品表面的附著物

等離子去膠機(jī)是利用等離子體技術(shù)進(jìn)行表面清洗和去膠的設(shè)備。其工作原理基于等離子體的高反應(yīng)活性，即在特定壓強(qiáng)和電壓條件下，通過(guò)氣體放電(如高頻交流電源產(chǎn)生電弧放電)的方式產(chǎn)生等離子體。這些等離子體由電子、離子、自由基等活性粒子組成，具有超高的能量和反應(yīng)活性。當(dāng)?shù)入x子體直接噴向被處理表面時(shí)，會(huì)與表面物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，分解并去除污染物，同時(shí)增加表面的活性，提升潤(rùn)濕性和附著力。等離子去膠機(jī)的功能特點(diǎn)：高效去膠：能夠迅速去除硅片、玻璃片等材料表面的污染物、有機(jī)硅油、油脂、殘留的光刻膠、膠...
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應(yīng)用案例

01 等離子清洗
等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。

圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
02 等離子去膠
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。

圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
03 等離子活化改性
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性；

圖為PLUTO-M對(duì)線(xiàn)路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
04 等離子刻蝕
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見(jiàn)的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

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